发明名称 | 光刻装置和器件制造方法 | ||
摘要 | SLM的像素元件用于和光刻投射装置一同使用,能够同时调制相位和振幅。 | ||
申请公布号 | CN1503062A | 申请公布日期 | 2004.06.09 |
申请号 | CN200310124078.6 | 申请日期 | 2003.11.26 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·J·布里克 |
分类号 | G03F7/20;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
主权项 | 1.一种光刻投射装置包括:-用于提供辐射投射光束的辐射系统;-用于根据理想的图案对投射光束进行构图的程控构图部件;-用于保持基底的基底台;-用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;特征在于所述程控构图部件包括多个独立可寻址像素,每个像素由单个分立元件构成,能够用来调制入射其上的辐射的振幅以及相位;并且至少一个像素元件包括一电光材料层以及用于有选择地向电光材料施加电压的电极,从而改变其双折射率。 | ||
地址 | 荷兰维尔德霍芬 |