发明名称 REMOVAL OF PARTICLE CONTAMINATION ON PATTERNED SLILICON/SILICON DIOXIDE USING SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE/CHEMICAL FORMULATIONS
摘要
申请公布号 AU2003288966(A1) 申请公布日期 2004.06.07
申请号 AU20030288966 申请日期 2003.10.29
申请人 ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 发明人 CHONGYING XU;THOMAS, H. BAUM;MICHAEL, B. KORZENSKI;ELIODOR, G. GHENCIU
分类号 B08B7/00;C11D7/02;C11D7/10;C11D7/32;C11D7/50;H01L21/306;H01L21/311 主分类号 B08B7/00
代理机构 代理人
主权项
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