| 发明名称 |
Method and system for context-specific mask writing |
| 摘要 |
A method for generating lithography marks includes generating integrated circuit design data and using context information from the integrated circuit design data to write a mask.
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| 申请公布号 |
US2004107412(A1) |
申请公布日期 |
2004.06.03 |
| 申请号 |
US20030620285 |
申请日期 |
2003.07.14 |
| 申请人 |
CADENCE DESIGN SYSTEMS, INC. |
发明人 |
PACK ROBERT C.;SCHEFFER LOUIS K. |
| 分类号 |
G03F1/08;G03F;G03F1/14;G03F7/20;G03F9/00;G06F17/50;H01L21/027;(IPC1-7):G06F17/50 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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