发明名称 |
Atomic layer deposition methods |
摘要 |
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申请公布号 |
AU2003290815(A8) |
申请公布日期 |
2004.06.03 |
申请号 |
AU20030290815 |
申请日期 |
2003.11.12 |
申请人 |
MICRON TECHNOLOGY, INC. |
发明人 |
GURTEJ S. SANDHU;TRUNG TRI DOAN;GUY T. BLALOCK |
分类号 |
C23C16/38;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;H01L21/285;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/38 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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