| 发明名称 |
COMPOSITION FOR POROUS FILM FORMATION, POROUS FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, INTERLAYER INSULATION FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003301981(A1) |
申请公布日期 |
2004.06.03 |
| 申请号 |
AU20030301981 |
申请日期 |
2003.11.13 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. |
发明人 |
FUJIO YAGIHASHI;YOSHITAKA HAMADA;HIDEO NAKAGAWA;MASARU SASAGO;MOTOAKI IWABUCHI |
| 分类号 |
C08L83/04;C08G77/04;C08G77/38;C08K5/23;C09D183/04;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):C09D183/04;H01L21/312 |
主分类号 |
C08L83/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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