Verfahren zur Herstellung einer CMOS-Halbleitereinrichtung,申请号DE19914136406-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Verfahren zur Herstellung einer CMOS-Halbleitereinrichtung
摘要
申请公布号	DE4136406(B4)	申请公布日期	2004.06.03
申请号	DE19914136406	申请日期	1991.11.05
申请人	MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO	发明人	SHIMIZU, MASAHIRO;MITSUI, KATSUYOSHI;YAMA, YOMIYUKI;YASUNAGA, MASATOSHI
分类号	H01L21/265;H01L21/336;H01L21/8238;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/336;H01L27/092;H01L21/823	主分类号	H01L21/265
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