光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件

摘要

一种光刻投射装置，其中真空室设有第一气体抽空装置，用来产生投射束的真空射束路径，所述光刻投射装置设有一个防撞装置，用来减小目标台与真空室壁或其它目标台碰撞的影响。这些碰撞在功率下降或装置的软件内出现软件错误时可能出现。

主权项

1.一种光刻投射装置，包括：辐射系统，用来提供辐射投射束；第一目标台，用来支撑构图部件，该构图部件用于依照所需图案对所述投射束构图；第二目标台，用来保持一基底；投射系统，用来将带图案的射束投射在所述基底的靶部上；其特征在于一防撞装置用来保护至少一个所述目标台或所述投射装置内其它的内部部件免受碰撞的损害。