等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，主要是改进等离子体处理装置内的上电极板的构造。本发明的上电极板包括绝缘盖板；支持框架，其固定在绝缘盖板的底部，以支持绝缘盖板，且具有一孔；以及气体分配板，由绝缘材质构成，其固定在支持框架的孔中，且其底部具有多个气孔，以便与气体供应系统连通。由于气孔位于绝缘材料所形成的气体分配板上，因此可增加抵抗等离子体的能力，避免气孔附近产生电弧放电现象，防止产品产生缺陷并提高产品良好率。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其包括：一处理腔体；一下电极板，位于所述处理腔体内，其上可放置将进行等离子体处理的一基板；一气体供应系统，用以供应气体至所述处理腔体内；一上电极板，位于所述处理腔体内、下电极板的上方；以及一电源，用以在所述上、下电极板之间施加电压差，以使所述处理腔体内的气体转变为等离子体。其中所述上电极板包括：一绝缘盖板；一支持框架，固定在所述绝缘盖板的底部，以支持所述绝缘盖板，且具有一孔；以及一气体分配板，由绝缘材料制成，固定在所述支持框架的孔中，且其底部具有多个气孔，所述气孔与所述气体供应系统连通，使气体可经由所述气孔供应到所述处理腔体内。