| 发明名称 | 提供光学质量硅表面的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种在光学系统，包括集成的光学波导器件结构上制备光学质量硅表面的系统和方法。粗糙表面通过干刻蚀过程形成。热氧化物在表面上通过湿或干的氧化过程生长。使用基于HF的溶液来刻蚀生长的氧化物，降低表面的粗糙度。为了获得所需程度的平滑度，可以重复进行本发明的过程。 | ||
| 申请公布号 | CN1502051A | 申请公布日期 | 2004.06.02 |
| 申请号 | CN02807888.8 | 申请日期 | 2002.02.01 |
| 申请人 | 英特尔公司 | 发明人 | 米哈伊尔·N·内登科夫;黄权;西瓦苏布拉马尼亚姆·叶格纳纳拉雅纳 |
| 分类号 | G02B6/12 | 主分类号 | G02B6/12 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、一种形成光学表面的方法，该方法包括：刻蚀基片形成具有表面粗糙度的光学表面；氧化光学表面部分，形成氧化区；除去氧化区，其中光学表面的表面粗糙度降低了。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||