采用二氧化碳清洁处理来去除旋涂材料的边缘珠粒

摘要

本发明提供了从旋涂薄膜去除边缘珠粒的方法。通过旋转一旋转涂覆的衬底(3)，使流体膨胀通过一个喷嘴(10)形成低温气雾流(11)，并在衬底(3)旋转时，使低温气雾流(11)对准区域(4)中的旋涂薄膜(1)，则可从与表面(2)的边缘(5)邻近的旋转涂覆衬底(3)的表面(2)的区域(4)除去旋涂薄膜(1)。此薄膜可能包含一种烷氧基硅烷和一种低挥发性溶剂。所述流体可以主要包括液态二氧化碳。含低挥发性溶剂的旋涂薄膜(1)不会往回生长到原来薄膜被去除的区域(4)，这种边缘珠粒去除过程的时间可以降至约10秒以下，并且废弃溶剂的量也减少了。

主权项

1.一种从已涂覆衬底的表面的一区域去除薄膜的方法，所述区域邻近所述表面的边缘，该方法包括：使所述已涂覆的衬底旋转；使一流体膨胀通过一喷嘴，以形成一低温气雾流；使该低温气雾流在所述衬底旋转时从喷嘴指向邻近所述边缘的所述区域中的薄膜。