| 发明名称 | 微波等离子体处理装置、等离子体点火方法、等离子体形成方法及等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 在微波等离子体处理装置(10)中设置促进利用微波进行等离子体点火的等离子体点火促进部件。等离子体点火促进部件具有产生真空紫外线的重氢灯(30)，以及，使真空紫外线透过并将之导入等离子体激发用空间(26)内的透过窗(32)。透过窗(32)构成为凸透镜结构，通过聚焦真空紫外线来促进等离子体激发气体的电离。通过所述结构，可以容易且快速地进行等离子体点火。 | ||
| 申请公布号 | CN1502121A | 申请公布日期 | 2004.06.02 |
| 申请号 | CN02807489.0 | 申请日期 | 2002.03.28 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;大见忠弘 | 发明人 | 大见忠弘;平山昌树;须川成利;后藤哲也 |
| 分类号 | H01L21/31;H01L21/205;B01J19/08;C23C16/511;H01L21/265;H01L21/3065;H05H1/46 | 主分类号 | H01L21/31 |
| 代理机构 | 北京东方亿思专利代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷;李其华 |
| 主权项 | 1.一种微波等离子体处理装置，该装置利用微波产生等离子体来进行等离子体处理，其特征在于，所述装置具有等离子体点火促进部件，用于促进利用微波的等离子体点火。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||