发明名称 光阻用含氟聚合物之制造方法
摘要 本发明系有关对真空紫外光具优良透明性之光阻用含氟聚合物的制造方法,其特征为,制造真空紫外领域下具有优良透明性之光阻用,特别是F2光阻用时可形成超微细图型之含氟聚合物中,具有来自碳数2或3之乙烯性单体中至少含有1个氟原子之含氟乙烯性单体(m1)的重复单位(M1),及/或来自能使聚合物主链具有脂肪族环构造且可含有氟原子之单体(m2)的重复单位(M2),又,聚合物中具有利用酸反应之酸反应性基Y^1或可变换为酸反应性基Y^1之基Y^2的含氟聚合物时,利用具氟原子之聚合引发剂将含氟乙烯性单体(m1)及/或该能使聚合物主链具有脂肪族环构造之单体(m2)自由基聚合。
申请公布号 TW200408649 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW092125334 申请日期 2003.09.12
申请人 大金工业股份有限公司;半导体先端科技股份有限公司 发明人 荒木孝之;石川卓司;高明天;鸟海实;山崎民雄;古川贵光;井谷俊郎
分类号 C08F20/22 主分类号 C08F20/22
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本