发明名称 | 光阻软烤设备及图案化光阻层的形成方法 | ||
摘要 | 一种光阻软烤设备及图案化光阻层的形成方法,主要系藉由调整加热板上各支撑针的高度,以达到光阻层软烤温度微调的目的。此外,本发明亦可藉由加热板中的多个温度控制器精密地控制各个加热区块的温度,以使得不同位置上的光阻层能够在适当的温度下进行软烤。在软烤温度获得微调的情况下,能够使得显影后的光阻层具有相同的关键尺寸。 | ||
申请公布号 | TW200408914 | 申请公布日期 | 2004.06.01 |
申请号 | TW091133679 | 申请日期 | 2002.11.19 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 来汉中 |
分类号 | G03F7/26 | 主分类号 | G03F7/26 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路一号 |