发明名称 垂直浸镀多层光学镀膜之涂布方法及其装置
摘要 本发明提供一种垂直浸镀多层光学镀膜之涂布方法及其装置,该方法包括下列步骤,先将一物件剥离或贴上至少一离形膜,再将物件垂直浸入及拉出镀液中,使物件涂布一层镀液,并将涂布镀液之物件进行烘烤,完成烘烤后,依照需求,以进行下一层之涂布;最后,完成所有涂布之程序后,剥离物件上原本之离形膜,将物件之两面皆贴上新的离形模。本发明系利用垂直浸镀法在有机基材上做连续性或半连续性奈米级光学镀膜的多层涂布,以达到光学抗反射效果或其他光学效果。
申请公布号 TW200408613 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW091134746 申请日期 2002.11.29
申请人 何当豪 发明人 何当豪
分类号 C03C17/00 主分类号 C03C17/00
代理机构 代理人 林火泉
主权项
地址 新竹市北区武陵路一七一号十一楼之二