发明名称 有机发光二极体蒸镀机台
摘要 一种有机发光二极体之蒸镀机台,包括有一遮罩清理室,用以对有机发光二极体蒸镀所使用之遮罩进行电浆清理;由于利用遮罩清理室进行遮罩清理并不需要将遮罩自蒸镀机台中取出;因此,可以避免机台停滞,同时,亦防止遮罩污染以确保制程之可靠度。五、(一)、本案代表图为:第五图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:有机发光二极体蒸镀机台100 基板载入取出室101有机蒸镀室102 金属蒸镀室103传送室104 遮罩清理室105前处理室106 封装室107
申请公布号 TW589920 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW092107764 申请日期 2003.04.04
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 萧调宏
分类号 H05B33/10 主分类号 H05B33/10
代理机构 代理人 李长铭 台北市中山区南京东路二段五十三号九楼;翁仁滉 台北市中山区南京东路二段五十三号九楼
主权项 1.一种有机发光二极体蒸镀机台,包括:一传送室;至少一个有机蒸镀室,连接至该传送室,该有机蒸镀室内装设有至少一个遮罩,用以蒸镀有机材料至基板上;以及一遮罩清理室,系连接至该传送室,于进行有机蒸镀后,该遮罩系经由该传送室传送至该遮罩清理室进行电浆清理。2.如申请专利范围第1项之有机发光二极体蒸镀机台,更包括一基板载入取出室,连接至该传送室,用以在不破坏该有机发光二极体蒸镀机台真空度之情况下,载入或取出该基板。3.如申请专利范围第1项之有机发光二极体蒸镀机台,更包括至少一个金属蒸镀室,连接至该传送室,用以蒸镀金属及无机盐类材料至该基板上。4.如申请专利范围第1项之有机发光二极体蒸镀机台,其中之传送室系利用一机械手臂传递该遮罩。5.如申请专利范围第1项之有机发光二极体蒸镀机台,更包括一前处理室,连接至该传送室,用以在蒸镀之前,对该基板表面进行电浆清理。6.如申请专利范围第1项之有机发光二极体蒸镀机台,更包括一封装室,连接至该传送室,用以在完成蒸镀之后,对该基板进行封合。7.一种有机发光二极体蒸镀机台,包括:一传送室;一基板载入取出室,连接至该传送室,用以在不破坏该有机发光二极体蒸镀机台真空度之情况下,载入或取出该基板;至少一个金属蒸镀室,连接至该传送室,用以蒸镀金属及无机盐类材料至该基板上;一前处理室,连接至该传送室,用以在蒸镀之前,对该基板表面进行电浆清理;一封装室,连接至该传送室,用以在完成蒸镀之后,对该基板进行封合;至少一个有机蒸镀室,连接至该传送室,该有机蒸镀室内装设有至少一个遮罩,用以蒸镀有机材料至基板上;以及一遮罩清理室,系连接至该传送室,于进行有机蒸镀后,该遮罩系经由该传送室传送至该遮罩清理室进行电浆清理。8.如申请专利范围第7项之有机发光二极体蒸镀机台,其中之传送室系利用一机械手臂传递该遮罩。图式简单说明:第一A,B与C图系利用蒸着光罩法进行有机发光层选择性薄膜成长之示意图。第二图系一传统有机发光二极体蒸镀机台之示意图。第三图系遮罩因有机发光材料蒸镀产生开孔阻塞之示意图。第四图系遮罩因微粒附着而导致有机发光薄膜产生缺陷之示意图。第五图系本发明有机发光二极体蒸镀机台一较佳实施例之示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路一号