发明名称 具有经处理表面层之基材及其制造方法
摘要 一种至少具有二种经处理表面层之基材,其中构成此经处理表面层中最外层的第一层其系由覆盖以内含预先决定之有机矽化合物的一种组成物(I)而形成,及构成底层且接触第一层的第二层彼系由覆盖以组成物(II)而形成,而此组成物内含含氟的反应性矽烷化合物(II),而其所形成的表面具有对水的接触角至少在100°。
申请公布号 TW589288 申请公布日期 2004.06.01
申请号 TW089124194 申请日期 2000.11.15
申请人 旭硝子股份有限公司 发明人 米田贵重;滨野直;郡司文明
分类号 C03C17/34;C09K3/18 主分类号 C03C17/34
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种具有至少二个经处理表面层之基材,其中构 成该等经处理表面层最外层的第一层系由覆盖以 下组成物(I)而形成,而构成底层且接触第一层的第 二层系由覆盖以下组成物(II)而形成, 组成物(I): 一种内含以下式(1)有机矽化合物、以每100重量份 该化合物(1)计为0.01至10重量份之酸、及以每100重 量份该化合物(1)计为至多100,000重量份之有机溶剂 的组成物, 组成物(II): 一种内含含氟反应性矽烷化合物(II)及以每100重量 份该化合物(II)计为至多100,000重量份之有机溶剂 的组成物,此化合物所形成的表面对水的接触角为 至少100,此化合物系以下式(IIA)及/或(IIB)表示, 其中R1至R3各为甲基基团或以下式(2)的基团,但一 分子中所含R1至R3中至少一者为以下式(2)的基团,R1 .n数目的R2,及R3可相同或不同,m为3至50之整数,且n 为0至10之整数; 其中A为C2-10伸烷基或氧原子,R4为C1-10烷基,Q为异氰 酸酯基团、氯原子或由OR5代表的烷氧基基团,但R5 为C1-6单价烃基团,p数目的R4可相同或不同,(3-p)数 目的Q可相同或不同,且p为0至2之整数; 其中Z1及Z2各为异氰酸酯基团或为可水解的基团, 但(3-a)数目的Z1及(3-b)数目的Z2可相同或不同,R6及R7 各为氢或C1-21有机基团,但a数目的R6与b数目的R7可 相同或不同,Y为二价有机基团,但a数目的R6基团、b 数目的R7基团及Y基团中至少一个基团为含氟有机 基团,且a与b各为0至2之整数; 其中R8为氢或C1-21有机基团,但c数目的R8可相同或 不同且c数目的R8中至少一个为含氟有机基团,Z3为 异氰酸酯基团或可水解的基团,且c为1至3之整数。 2.如申请专利范围第1项之具有经处理表面层之基 材,其进一步具有构成底层而接触该第二层的第三 层,其中此第三层系由覆盖一种含有不含氟的反应 性矽烷化合物(III)及以每100重量份该化合物(III)计 为至多100,000重量份之有机溶剂的组成物(III)所形 成的。3.如申请专利范围第1项之具有经处理表面 层之基材,其中该基材为窗户玻璃。4.一种用于制 造如申请专利范围第1项之具有经处理表面层的基 材之方法,包括:在基材的表面上覆盖一种含有申 请专利范围第1项中所定义之化合物(II)及以每100 重量份该化合物(II)计为至多100,000重量份之有机 溶剂的组成物(II)而形成第二层之步骤;以及在该 第二层的表面覆盖一种含有申请专利范围第1项中 所定义之化合物(1)、以每100重量份该化合物(1)计 为0.01至10重量份之酸、及以每100重量份该化合物( 1)计为至多100,000重量份之有机溶剂的组成物(I)而 形成第一层之步骤。5.一种用于制造如申请专利 范围第2项之具有经处理表面层的基材之方法,包 括:在基材的表面上覆盖一种含有申请专利范围第 2项中所定义之化合物(III)及以每100重量份该化合 物(III)计为至多100,000重量份之有机溶剂的组成物( III)而形成第三层之步骤;在该第三层的表面覆盖 一种含有申请专利范围第1项中所定义之化合物(II )及以每100重量份该化合物(II)计为至多100,000重量 份之有机溶剂的组成物(II)而形成第二层之步骤; 以及在该第二层的表面覆盖一种含有申请专利范 围第1项中所定义之化合物(1)、以每100重量份该化 合物(1)计为0.01至10重量份之酸、及以每100重量份 该化合物(1)计为至多100,000重量份之有机溶剂的组 成物(1)而形成第一层之步骤。
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