| 主权项 |
1.一种超纯水制造装置,其为具备由纯水流动方向 之上游侧依序配设之紫外线氧化装置及离子交换 装置、和 将该离子交换装置所处理之离子交换处理完毕之 纯水采样,并令其中所含之氧化性物质完全分解且 变换成溶存氧之氧化性物质分解装置、和 测定该离子交换处理完毕纯水中之第1溶存氧浓度 、和 该氧化性物质分解装置所处理之分解处理完毕纯 水中之第2溶存氧浓度,并算出显示两者浓度差之 第3溶存氧浓度,且根据该第3溶存氧浓度调整该紫 外线氧化装置之紫外线光量的反馈机构。2.如申 请专利范围第1项之超纯水制造装置,其中该反馈 机构为具备 检测该第1溶存氧浓度之第1溶存氧浓度计、和 检测该第2溶存氧浓度之第2溶存氧浓度计、和 接受来自该第1及第2溶存氧浓度计之数据,算出该 第3溶存氧浓度,并且控制该紫外线氧化装置之紫 外线光量的控制系统。3.如申请专利范围第1项之 超纯水制造装置,其中该氧化性物质分解装置为具 备于采样之该离子交换处理完毕之纯水中注入硷 性成分,予以硷性化之机构。4.如申请专利范围第1 项之超纯水制造装置,其中该氧化性物质分解装置 为具备将采样之该离子交换处理完毕之纯水,接触 铂或活性碳之机构。5.一种超纯水制造装置,其为 具备 直列配设之至少二个离子交换装置、和 于该至少二个离子交换装置之配设依序流入纯水 所配设之主路径、和 于该主路径连接,且与该至少二个离子交换装置之 配设顺序不同之顺序流入纯水之复数个分支路路 径。6.如申请专利范围第5项之超纯水制造装置,其 中该复数个分支路路径为含有 该至少二个离子交换装置中,将最上游侧之离子交 换装置以外之一个离子交换装置所处理之第1处理 完毕纯水,供给至剩余的离子交换装置之第1分支 路路径、和 将供给该第1处理完毕纯水之离子交换装置所输出 之第2处理完毕纯水,返回该主路径之第2分支路路 径、和 对该最上游侧之离子交换装置以外之离子交换装 置,各别供给纯水之第3分支路路径。7.如申请专利 范围第6项之超纯水制造装置,其为再具备 于该至少二个离子交换装置之下游侧所配设之超 过滤膜、和 将该超过滤膜所输出之透过纯水,供给至该至少二 个离子交换装置之第4分支路路径、和 检测流过该第4分支路路径之该透过纯水之金属成 分的金属浓度计。8.如申请专利范围第6项之超纯 水制造装置,其中该主路径为具有配设于此路径上 ,且令纯水对于该至少二个离子交换装置之供给, 为于该至少二个离子交换装置分别阻断之复数个 主路径上阀, 且该主路径上阀为被控制成纯水流入该第1~第3分 支路路径时关闭。9.一种超纯水制造装置,其为具 备对纯水照射紫外线令有机物分解,测定来自生成 二氧化碳之有机物浓度之全有机碳计的超纯水制 造装置, 该全有机碳计为具备 于纯水输入侧所配设,且于供给至该全有机碳计之 纯水中溶入氧之氧溶解元件。10.如申请专利范围 第9项之超纯水制造装置,其中该氧溶解元件为具 有 令不含有有机物之氧气或臭氧气于纯水中发泡之 机构。11.如申请专利范围第9项之超纯水制造装置 ,其中该氧溶解元件为具有 令供给至该全有机碳计之纯水冷却之机构,且对经 冷却之纯水供给不含有有机物之氧气或臭氧气。 12.一种超纯水制造装置,其为超纯水制造装置,具 备 经最终处理之纯水出口、和与纯水最终供给者之 使用点之间配设,且于该最终处理之纯水中溶入二 氧化碳之二氧化碳溶解元件。13.如申请专利范围 第12项之超纯水制造装置,其中该二氧化碳溶解元 件为具有令二氧化碳气体于纯水中发泡之机构。 14.如申请专利范围第12项之超纯水制造装置,其为 于该二氧化碳溶解元件、与该使用点之间以导电 性配管连接。图式简单说明: 图1为示出TOC-UV之紫外线强度相对于DO浓度和TOC浓 度之关系图。 图2为示出TOC-UV之UV灯之功率强度相对于DO浓度及 TOC浓度实测値之图。 图3为示出本发明实施形态1之超纯水制造装置之 构成的长条图。 图4为说明算出残存氧化性物质量之概念图。 图5为示出具有复数个CP及复数个UF膜之先前的超 纯水制造装置之构成图。 图6为示出由CP及UF膜溶出金属之事例图。 图7为示出本发明实施形态2之超纯水制造装置之 构成的长条图。 图8为示出本发明实施形态2之超纯水制造装置之 构成的长条图。 图9为示出本发明实施形态2之超纯水制造装置之 构成的长条图。 图10为示出先前之TOC计之构成图。 图11为示出本发明实施形态3之超纯水制造装置之 TOC计之周边构成的长条图。 图12为示出氧溶解元件之一例图。 图13为示出氧溶解元件之一例图。 图14为示出本发明实施形态4之超纯水制造装置之 使用点附近构成的长条图。 图15为示出二氧化碳溶解元件之一例图。 |
