发明名称 |
检验方法和器件制造方法 |
摘要 |
通过印制测试图案来检测光刻装置中的像差,该测试图案具有至少一个对称度,该测试图案对于该装置中的特定像差是敏感的,并且利用散射计来获得关于像差的信息。测试结构可以包括双条光栅,在这种情况下,可以重构内部和外部占空比来获取表示慧形像差的信息。另外,也可以使用点的六角形阵列,在这种情况下,散射测量数据可用于重构表示3-波像差的点的直径。 |
申请公布号 |
CN1499292A |
申请公布日期 |
2004.05.26 |
申请号 |
CN200310120342.9 |
申请日期 |
2003.11.01 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
A·J·登博夫;H·范德拉安;A·J·J·范迪塞当克;M·杜萨;A·G·M·基尔斯 |
分类号 |
G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/00 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
崔幼平 |
主权项 |
1.一种检验方法,其包括以下步骤:用光刻装置将具有至少一个对称度的测试图案印制在基底上,所述测试图案对于所述光刻装置中可能存在的至少一种像差是敏感的;用散射计来测量所述测试图案的反射光谱;和由反射光谱获得到表示所述光刻装置中存在的所述至少一种像差的量的信息。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |