| 发明名称 | 氧化物烧结体和溅射靶，以及用作电极的透明导电氧化物膜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种用于溅射靶的氧化物烧结体，其中主要成分是氧化铟，并包含使Ti/In的原子比率为0.003至0.120的钛，并且其电阻率为1kΩcm或更小。 | ||
| 申请公布号 | CN1498875A | 申请公布日期 | 2004.05.26 |
| 申请号 | CN200310120357.5 | 申请日期 | 2003.10.29 |
| 申请人 | 住友金属矿山株式会社 | 发明人 | 阿部能之;石山典子;小原刚 |
| 分类号 | C04B35/46;C04B35/622;H01B1/08;C23C14/34 | 主分类号 | C04B35/46 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蔡胜有 |
| 主权项 | 1.一种主要由氧化铟构成并含有钛的氧化物烧结体，其中所含的钛使Ti/In原子比率为0.003至0.120，并且其中电阻率为1kΩ或更低。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||