| 主权项 |
1.一种具自发性抖振特性之电子元件的支撑部吸震结构改良,系以具弹性胶质材料一体成型,包括有:一顶面、一底面,且该顶面与底面间藉由至少一层连续来回弯延形成之环形空间隔结构相连接,且该每一环形空间隔结构间具有一可弹性伸缩之间隔者。2.依申请专利范围第1项所述之吸震结构改良,其中顶面与底面间之环形空间隔结构中,设有至少一段之颈沟式崁架部,藉以接受待支撑电子元件之支撑部的套置。3.依申请专利范围第1项所述之吸震结构改良,其中之弹性胶质材料为橡胶者。4.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构系由断面呈来回弯延之圆滑曲面胶膜所形成。5.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构系由断面呈来回弯延之直角弯摺面胶膜所形成。6.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构系由断面呈来回弯延之斜向弯摺面胶膜所形成。7.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中顶面与底面系形成马蹄型之两平行面者。8.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中顶面与底面系形成圆环状之两平行面者。9.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中之各环形空间隔结构之内部间隔为同间距者。10.依申请专利范围第1或2或3项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。11.依申请专利范围第4项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。12.依申请专利范围第5项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。13.依申请专利范围第6项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。14.依申请专利范围第7项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。15.依申请专利范围第8项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。16.依申请专利范围第9项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。17.依申请专利范围第10项所述之吸震结构改良,其中之环形空间隔结构,断面系形成来回弧曲之蛇覆式伸缩胶膜结构者。图式简单说明:第1A图系本创作一可行实施例之立体示意图。第1B图系第1A图所示实施例之应用状态的侧向剖视图。第2A图系本创作之第1A图所示实施例结合于受支撑物上之应用状态的立体示意图。第2B图系本创作第2A图所示实施例之立体分解图。第3A图系本创作之另一可行实施例之立体示意图。第3B图系第3A图所示实施例之应用状态的侧向剖视图。第4A图系本创作之第3A图所示实施例结合于受支撑物上之应用状态的立体示意图。第4B图系本创作第4A图所示实施例之立体分解图。第5A图系习知实心橡胶缓冲垫之立体示意图。第5B图系第5A图所示实施例之应用状态的侧向剖视图。第6A图系第5A图所示之实施例之应用状态立体示意图。第6B图系第6A图所示实施例之立体分解图。 |
