| 主权项 |
1.一种万象雷射量测仪之结构,主要包括:一基座,该基座系由一底板、一上板、复数之调整装置构成,该调整装置包括一螺杆、一调整轮,该调整装置则位于底板、上板之均布之各角上,藉由螺杆螺合上板、调整轮、底板使成一整体结构;一壳体,具有一水平用载置面,一铅直用载置面;复数之发射件,同一水平均布设置于前述该壳体上部,分朝向不同方位,该发射件与电源连接,藉由电源导通可发射雷射光,于发射件之发出雷射光处设有一分光镜,于发射件外部之壳体上方设有一盖体,于盖体顶部中央设有一水平器,该盖体之相对应于发射件之分光镜处设有水平长条型窗孔;前述该壳体之水平用载置面、铅直用载置面上,与前述基座之间设有可相互吸附之磁性装置,该发射件可经由窗孔使雷射光射出,经由分光镜将雷射光扩散为线状,同时藉由基座之调整装置可微调基座呈完全水平或任意倾斜角度,使射出之360度圆周线状雷射光符合作业所需者。2.如申请专利范围第1项所述之万象雷射量测仪之结构,其中,该基座之底板、上板系成对称之正三角形,该调整装置则位于底板、上板均布之三个角上者。3.如申请专利范围第1项所述之万象雷射量测仪之结构,其中,该壳体之该水平用载置面、铅直用载置面上,与该基座之间所设置之可相互吸附之磁性装置,系为磁铁者。4.一种万象雷射量测仪之结构,主要包括:一基座,该基座系由一底板、一上板、复数之调整装置构成,该调整装置包括一螺杆、一调整轮,该调整装置则位于底板、上板之均布之各角上,藉由螺杆螺合上板、调整轮、底板使成一整体结构;一壳体,具有一水平用载置面,一铅直用载置面;一发射件,该发射件与电源连接,藉由电源导通可发设雷射光,该发射件系安装于一盖体之底部,于该盖体之顶部中央设有一水平器,该盖体与前述该壳体之间具有一适当间隙,该发射件底部之该壳体内设有一马达,该马达上设有一分光镜,该分光镜藉由一转轴连设于马达上,概成45度倾斜角度,该水平器、发射件、分光镜、转轴、马达位于同一轴心,且该发射件所发射雷射光之方向系沿轴心方向朝下发射,该马达可带动该分光镜旋转;前述该壳体之该水平用载置面、铅直用载置面上,与前述该基座之间设有可相互吸附之磁性装置,导通电源使发射件发射雷射光于分光镜上,由于分光镜高速旋转,故能形成一连续线由盖体与壳体之间隙射出,同时藉由基座之调整装置可微调基座呈完全水平或任意倾斜角度,使射出之360度圆周线状雷射光符合作业所需者。5.如申请专利范围第4项所述之万象雷射量测仪之结构构,其中,该底板、上板系成对称之正三角形,该调整装置则位于底板、上板均布之三个角上者。6.如申请专利范围第4项所述之万象雷射量测仪之结构,其中,该壳体之该水平用载置面、铅直用载置面上,与该基座之间所设置之可相互吸附之磁性装置,系为磁铁者。图式简单说明:第一图系本创作之分解立体图。第二A图系本创作之组合立体图。第二B图系本创作之量测铅直线时之组合立体图。第三图系第一图之A-A剖视图。第三A图系本创作之发射件之固定结构示意图。第四图系第一图之B-B剖视图。第五A至五C图系本创作之分光水平镜之不同实施例图。第六图系本创作之另一实施例之部份剖视图。第六A图系第六A图之实施例之分光镜旋转之示意图。第七A图系第六图之实施例之量测水平线之示意图。第七B图系第六图之实施例之量测铅直线之示意图。第八图系习知雷射环圈扫描平度测定器之结构剖视图。 |
