| 主权项 |
1.一种具多芯光纤束之阵列光纤组之制作方法,包括下列步骤:(a)提供至少一第一光纤束以及至少一第二光纤束,其中该第一光纤束具有至少两段披覆层,且该披覆层之间具有复数个等距之裸露光纤;该第二光纤束具有披覆层,且该第二光纤束披覆层之一端具有复数个等距之裸露光纤;(b)将该第一光纤束之披覆层与该第二光纤束之披覆层重叠,使得每一裸露光纤与其相邻裸露光纤之间距皆相等;以及(c)固定该第一光纤束之披覆层与该第二光纤束之披覆层,以形成一等间距之阵列光纤组。2.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其更包含步骤(d)将该第一光纤束之该裸露光纤与该第二光纤束之该裸露光纤,对准及固定于一具V型槽沟之光纤阵列基座。3.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其中该步骤(c)之固定方式系以胶带黏封固定。4.如申请专利范围第1项所述之制作方法,其中该步骤(b)披覆层重叠部分之宽度介于0.03mm与0.08mm之间。5.一种具多芯光纤束之阵列光纤之制作方法,包括下列步骤:(a)提供复数个第一光纤束,以及复数个第二光纤束,其中,该第一光纤束具有至少两段披覆层,且该披覆层之间具有复数个等距之裸露光纤;该第二光纤束具有披覆层,且该第二光纤束披覆层之一端为复数个等距之裸露光纤;(b)将各第一光纤束与第二光纤束重叠,使得该复数个第二光纤束夹置于至少两第一光纤束之间,并使得每一裸露光纤与其相邻裸露光纤之间距皆相等;以及(c)固定各光纤束之披覆层,以形成一等间距之阵列光纤束组。6.如申请专利范围第5项所述之制作方法,其更包含步骤(d)将该第一光纤束组之该裸露光纤与该第二光纤束之该裸露光纤,对准及固定于至少一具V型槽沟之光纤阵列基座。7.如申请专利范围第5项所述之制作方法,其中该步骤(c)之固定方式系以胶带黏封固定。8.如申请专利范围第5项所述之制作方法,其中该步骤(b)披覆层重叠部分之宽度介于0.03mm与0.08mm之间。图式简单说明:图1A系本发明具多芯光纤束之阵列光纤之制作方法之一较佳例流程图;图1B系图1A之立体示意图。图2A系本发明具多芯光纤束之阵列光纤之制作方法之另一较佳例流程图;图2B系图2A之立体示意图。图3A系习知阵列光纤之制作方法之示意图;图3B系图3A之立体示意图。 |
