| 发明名称 |
METHOD FOR DETERMINING PHYSICAL OR CHEMICAL PARAMETERS OF A THIN MATERIAL LAYER |
| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung physikalischer oder chemischer Parameter einer dünnen Materialschicht auf einem piezoelektrischen Resonator, wobei die Resonanzfrequenz und/oder die Dämpfung des Resonators gemessen wird, wobei zumindest eine zur Resonatoranregung (drive level) proportionale Grösse, vorzugsweise der Resonatorstrom oder die Verlustleistung des Resonators auf einen vorgebbaren Wert eingestellt wird. Erfindungsgemäss ist vorgesehen dass die Resonanzfrequenz und/oder die Dämpfung in Abhängigkeit der zur Resonatoranregung proportionalen Grösse aufgezeichnet wird. Als Resonatormaterial wird bevorzugt GaPO4 verwendet.</p> |
| 申请公布号 |
WO2004042370(A1) |
申请公布日期 |
2004.05.21 |
| 申请号 |
WO2003AT00334 |
申请日期 |
2003.11.06 |
| 申请人 |
AVL LIST GMBH;KREMPL, PETER;KRISPEL, FERDINAND |
发明人 |
KREMPL, PETER;KRISPEL, FERDINAND |
| 分类号 |
G01N29/032;G01N5/00;G01N9/00;G01N11/16;G01N27/00;G01N29/02;G01N29/036;G01N29/12;(IPC1-7):G01N5/00 |
主分类号 |
G01N29/032 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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