发明名称 |
整形反射器多波束天线 |
摘要 |
本发明公开了用于电磁学设计整形反射器多波束天线(100)的方法、装置和计算机程序产品。为给定波束方向的多波束天线(100)的反射器(110,120)和馈源提供了的初始构型,反射器用初始反射器整形处理过程(612)整形,而馈源具有初始规定(614)。初始反射器整形处理过程(612)是一个迭代优化的处理过程以提高从给定波束方向(100)入射到多波束天线上的光线的聚焦。第二迭代优化处理过程包括优化(620)馈源(140A-140D)的辐射图和优化(622)反射器(110,120)的表面形状和尺寸,并用于降低波束溢出、改进波束形状和获得增益辐射图在所需上下限内的波束。 |
申请公布号 |
CN1497780A |
申请公布日期 |
2004.05.19 |
申请号 |
CN03160192.8 |
申请日期 |
2003.09.29 |
申请人 |
联邦科学和工业研究组织 |
发明人 |
斯图尔特·G·哈伊;克里斯托弗·琼-马克·格拉特;特雷弗·S·伯德;马克·A·斯普雷;斯蒂芬·J·巴克;安东尼·R·福塞斯 |
分类号 |
H01Q19/12 |
主分类号 |
H01Q19/12 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种电磁学设计整形反射器多波束天线的方法,该方法包括如下步骤:提供反射器和馈源的初始构型,其中反射器用初始反射器整形过程整形,而馈源用于所需波束方向的多波束天线,所述反射器整形过程是一个迭代优化过程以提高从每一个波束方向入射到该多波束天线上的光线的聚焦;优化该馈源的辐射图,该优化是一个迭代过程以满足所需的多波束天线的波束的增益辐射图的上下界;和优化该反射器的表面形状和尺寸,该优化是一个迭代过程以满足所需的所述多波束天线的该波束的该增益辐射图的上下界。 |
地址 |
澳大利亚首都直辖区 |