发明名称 | 保护用于固定光学元件的粘合剂不受紫外光影响的方法 | ||
摘要 | 提供一种用于减少通过光学元件发射的散射光,保护用于将光学元件固定在适当位置的粘合剂不受光致降质的影响的方法。在一个实施例中,该方法包括将一薄的有机氧金属化合物涂层涂敷到光学元件将要施加粘合剂的区域,并将该有机氧金属化合物暴露于紫外光。暴露于紫外光,可将该有机氧金属化合物转变成其相应的金属氧化物,以形成光学惰性的光吸收涂层,保护用于将光学元件固定在适当位置的粘合剂不受光致降质的影响。 | ||
申请公布号 | CN1497287A | 申请公布日期 | 2004.05.19 |
申请号 | CN03159459.X | 申请日期 | 2003.09.25 |
申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 马修·利普森;罗纳德·A·维尔科娄 |
分类号 | G02B7/00;C09J11/00 | 主分类号 | G02B7/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李德山 |
主权项 | 1.一种用于减少通过光学元件边缘发射的光的方法,包括:将有机氧金属化合物涂层涂敷到该光学元件的边缘;并且将该有机氧金属化合物暴露于紫外光,以将该有机氧金属化合物转变成相应的金属氧化物,从而该涂层保护用于将光学元件固定在适当位置的粘合剂不受光致降质的影响。 | ||
地址 | 荷兰费尔德霍芬 |