发明名称 投影光学系统以及具备该投影光学系统的曝光装置
摘要 一种反射型投影光学系统,对X光有良好的反射特性,能够抑制反射镜的大型化,并且能进行良好的像差修正,该投影光学系统配备六个反射镜,可在第二面(7)上形成第一面(4)的缩小像。该投影光学系统具备第一反射成像光学系统(G1)用以形成第一面的中间像,以及第二反射成像光学系统(G2)用以在第二面上形成中间像的像。第一反射成像光学系统,依据第一面的来光的入射顺序,设有第一反射镜(M1)、开口光圈(AS)、第二反射镜(M2)、第三反射镜(M3)、及第四反射镜(M4)。第二反射成像光学系统,依据第一面来的光的入射顺序,配有第五反射镜(M5)及第六反射镜(M6)。
申请公布号 CN1497353A 申请公布日期 2004.05.19
申请号 CN200310100546.6 申请日期 2003.10.16
申请人 尼康株式会社 发明人 高桥友刀
分类号 G03F7/20;G03F7/00;G03F5/10;G02B17/06;G03B42/02 主分类号 G03F7/20
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 王学强
主权项 1.一种投影光学系统,配有六个反射镜,用于在第二面上形成第一面的缩小像,其特征为:配备第一反射成像光学系统,用以形成该第一面的中间像,及第二反射成像光学系统用以在该第二面上形成该中间像的像;且该第一反射成像光学系统,依据该第一面来的光的入射顺序,配有第一反射镜(M1)、开口光圈(AS)、第二反射镜(M2)、第三反射镜(M3)、及第四反射镜(M4);且该第二反射成像光学系统,依据该第一面来的光的入射顺序,配有第五反射镜(M5)及第六反射镜(M6)。
地址 日本东京都