等离子处理装置

摘要

本发明的目的在于提供一种等离子处理装置，是一种不需要具有特定形状的专用容器，就能使等离子体生成容器内的等离子体密度得以均匀化的等离子处理装置，其中包含：至少具有一个开口，并且可以生成等离子体的容器(12)；以将前述开口予以气密覆盖的方式设置的电介质构件(14)；在前述容器外部以一端侧与前述电介质构件以相对向的方式设置至少一个波导管(16)；设置在波导管的另一端侧的电磁波源(20)；设置在前述波导管的与电介质构件相对向面的多个孔穴(38、40、42、44、46)；以及在前述孔穴的至少一个孔穴上设置用来调整该孔穴的开口面积的孔穴面积调整机构(18)。

主权项

1.一种等离子处理装置，其特征在于，包含：至少具有一个开口并生成等离子体的容器；以将所述开口予以气密覆盖的方式设置的电介质构件；以一端侧与所述电介质构件相对向的方式设置在所述容器外部的至少一个波导管；设置在所述波导管的另一端侧的电磁波源；设置在所述波导管的与所述电介质构件相对向面的多个孔穴；以及在所述孔穴的至少一个孔穴上设置的用来调整所述孔穴的开口面积的孔穴面积调整机构。