| 发明名称 | LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种即使在低NA条件下，也可以高清晰度形成抗蚀图的，LCD制造用的抗蚀剂材料。本发明的抗蚀剂材料，是含有(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物以及(C)交联性聚乙烯醚化合物的LCD制造用正型抗蚀剂组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1497347A | 申请公布日期 | 2004.05.19 |
| 申请号 | CN200310101490.6 | 申请日期 | 2003.10.21 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 片野彰;馆俊聪;宫城贤 |
| 分类号 | G03F7/039;G03F7/26;G02F1/13;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1、一种LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于含有下列成分(A)～(C)：(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物，(C)交联性聚乙烯醚化合物。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||