| 摘要 |
An einer Isolierschicht (3, 23) wird ein erster vertiefter Abschnitt (7, 27) gebildet. In den ersten vertieften Abschnitt und auf die Isolierschicht wird ein Verfüllmaterial (8, 28) ein- bzw. aufgebracht, um den ersten vertieften Abschnitt zu verfüllen. Ein chemisch-mechanisches Polieren des Verfüllmaterials wird durchgeführt, bis die Isolierschicht freiliegt, wobei das Verfüllmaterial nur im ersten vertieften Abschnitt verbleibt. Auf der Isolierschicht, in der das Verfüllmaterial vergraben liegt, wird ein Resist (10, 30) mit einer Strukturierung eines zweiten vertieften Abschnitts (11, 31) gebildet, der den ersten vertieften Abschnitt überlagert. Das Verfüllmaterial und die Isolierschicht werden unter Verwendung des Resists als Maske auf eine vorbestimmte Tiefe geätzt, um den zweiten vertieften Abschnitt zu bilden. Der Resist und das verbliebene Verfüllmaterial werden nach dem Schritt des Ätzens entfernt. Im ersten vertieften Abschnitt und zweiten vertieften Abschnitt wird ein leitfähiges Material (12, 32) abgeschieden.
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