发明名称 Selbstjustierender Transistor und Verfahren zur Herstellung
摘要 Es wird ein Transistor mit einem Kollektor, einem Emitter (EM) und zwischen Kollektor und Emitter angeordneter intrinsischer Basis (IB) vorgeschlagen, bei dem eine extrinsische Basis (EB) zur intrinsischen Basis hin mit einer topologischen Stufe abfällt. Ein sich dieser Stufe anschmiegendes Spacergebiet (SG) definiert die Grundfläche der intrinsischen Basis relativ zur topologischen Stufe und damit relativ zur entrinsischen Basis. Es wird ein Transistor mit exakt einstellbarem Abstand zwischen extrinsischer und intrinsischer Basis und definierten Eigenschaften erhalten.
申请公布号 DE10249897(A1) 申请公布日期 2004.05.13
申请号 DE2002149897 申请日期 2002.10.25
申请人 AUSTRIAMICROSYSTEMS AG, UNTERPREMSTAETTEN 发明人 ENICHLMAIR, HUBERT;KRAFT, JOCHEN
分类号 H01L21/331;H01L29/10;H01L29/732;H01L29/737;(IPC1-7):H01L29/73 主分类号 H01L21/331
代理机构 代理人
主权项
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