发明名称 |
Selbstjustierender Transistor und Verfahren zur Herstellung |
摘要 |
Es wird ein Transistor mit einem Kollektor, einem Emitter (EM) und zwischen Kollektor und Emitter angeordneter intrinsischer Basis (IB) vorgeschlagen, bei dem eine extrinsische Basis (EB) zur intrinsischen Basis hin mit einer topologischen Stufe abfällt. Ein sich dieser Stufe anschmiegendes Spacergebiet (SG) definiert die Grundfläche der intrinsischen Basis relativ zur topologischen Stufe und damit relativ zur entrinsischen Basis. Es wird ein Transistor mit exakt einstellbarem Abstand zwischen extrinsischer und intrinsischer Basis und definierten Eigenschaften erhalten.
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申请公布号 |
DE10249897(A1) |
申请公布日期 |
2004.05.13 |
申请号 |
DE2002149897 |
申请日期 |
2002.10.25 |
申请人 |
AUSTRIAMICROSYSTEMS AG, UNTERPREMSTAETTEN |
发明人 |
ENICHLMAIR, HUBERT;KRAFT, JOCHEN |
分类号 |
H01L21/331;H01L29/10;H01L29/732;H01L29/737;(IPC1-7):H01L29/73 |
主分类号 |
H01L21/331 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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