METHOD FOR PRODUCING AN ELEMENT COMPOSING AN ANNULAR MICROSTRUCTURE

摘要

Ein ringförmiges Mikrostrukturelementes (R), insbesondere ein ringförmig angeordneter ein- oder mehrlagiger Dünnschichtfilm wird auf einem Substrat (S) zur Verwendung in einem magnetoresistivem Speicher gebildet. Dazu wird eine Maskierschicht auf dem Substrat aufgebracht, die die Oberfläche des Substrates (S) unmittelbar bedeckt. Eine Öffnung (C) wird in die Maskierschicht geätzt, so daß ein Teilbereich der Oberfläche freigelegt wird. Der Ätzvorgang wird derart ausgeführt, daß die Öffnung (C) mit einen Überhang (B) ausgebildet wird. Der Überhang schattet die freigelegte Oberfläche zumindest teilweise von einem einfallenden Teilchenstrahl (TS) ab. Unter schrägem Einfallswinkel (alpha) wird ein Teichenstrahl (TS) auf das Substrat (S) gerichtet. Dabei wird das Substrat (S) relativ zu dem gerichteten Teilchenstrahl (TS) gedreht. Aus dem Teilchenstrahl wird dadurch Material ringförmig auf der freigelegten Oberfläche zur Bildung eines lochartigen Mikrostrukturelementes (R) abgelagert.