| 发明名称 |
Method and apparatus for detecting endpoint during plasma etching of thin films |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003284890(A8) |
申请公布日期 |
2004.05.13 |
| 申请号 |
AU20030284890 |
申请日期 |
2003.10.22 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
BRIAN K. MCMILLIN;JEFFREY MARKS;ERIC HUDSON |
| 分类号 |
H01L21/311;H01L21/66;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/311;H01J37/32 |
主分类号 |
H01L21/311 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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