制造阴极射线管矩阵的方法

摘要

制造CRT(10)荧光屏(22)配件的方法。该配件在荧光屏面板(12)的内表面上形成，包括有许多开口的吸光矩阵(20)。该矩阵由在该内表面上涂布一个或多个含光刻胶和对比增效材料的光敏层(56)形成。该光敏层选择曝光于经与屏配件定距离的掩模(25)中开口的光化辐射。对该一层或多层两次曝光，其第一剂量使对比增效材料的选择区域以对比增效材料作为第二剂量的滤光片方式漂白，第二剂量使光刻胶在选择区硬化，其在一个或多个层中传播而被滤光，使选择区域光化辐射水平与非选择区域光化辐射水平之比大于在选择区域的相应入射第二剂量与非选择区域的之比。在矩阵材料沉积在屏表面的未覆盖区后除去所述光敏层的保留部分而形成矩阵线。

主权项

1.一种制造用于CRT(10)的吸光矩阵(20)的方法，所述矩阵形成在所述CRT的荧光屏面板(12)的内表面上，所述矩阵限定用于以后的无机发光材料元件沉积物的开口，所述CRT包括与所述内表面隔开的颜色选择电极(25)，所述电极在其中有许多隙缝(33)，所述方法的特征在于下述步骤：在所述面板的内表面上形成至少一个光敏层(56)，所述层包含对比增效材料和光刻胶材料；将所述至少一个光敏层曝光到第一剂量光中，其经所述掩模中的隙缝，使对比增效材料充分地进行选择性漂白，从而使所述材料得到响应所述第一剂量的较大光透射，这样以致于第一剂量的较高水平引起较大光透射，所述对比增效材料在至少两个位置有不同光透射，其中，第一位置具有较低透射，而第二位置具有较高透射；将所述至少一个光敏层曝光到所述第二剂量光中，使选择区(59)内的所述光刻胶材料基本硬化，其中硬化程度随所述第二曝光的能量水平的增加而增加，所述第二剂量的入射能分布基本上与所述第一剂量的相似，和所述入射能分布经滤光至实际决定所述硬化程度的有效能分布，其中在所述第二位置中发生的所述硬化比在所述第一位置大，这样以致在所述第二位置的所述硬化与所述第一位置的之比是一个较在没有所述对比增效材料存在下所得的该比值大的数值；除去所述至少一个光敏层的、基本没有被所述第二剂量硬化的部分，留下所述硬化的选择区；用吸光矩阵材料罩涂荧光屏面板的内表面；和除去保留的部分，在所述保留部分所处的地方形成开口。