发明名称 多波束曝光装置
摘要 一种多光束曝光装置,使每光束之间的偏差降低、使图象正确重合,无色差或光束之间的间距不产生变化。包括:偏转前光学系统5,具有光源3和调节机构11,光源具有设置于三角形的每个顶点位置的发光点,调节机构一起对光源射出的光束L在像面上的副扫描方向光束间距进行调节;光偏转器7,具有可旋转形成的反射面,使光束朝向规定方向偏转;偏转后光学系统9,将m束光束连续地成像于像面上,使三激光的副扫描方向的间距基本相等。
申请公布号 CN1149422C 申请公布日期 2004.05.12
申请号 CN98120370.1 申请日期 1998.09.22
申请人 株式会社东芝 发明人 白石贵志;山口雅夫;福留康行
分类号 G02B26/12;G03G15/00 主分类号 G02B26/12
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王勇;叶恺东
主权项 1.一种多波束曝光装置,包括:偏转机构(7),其通过使按照可旋转的方式形成的反射面以规定速度旋转,使光束朝向主扫描方向偏转;光源(3),其具有2以上整数的n组,每组具有2以上整数的m个发光点的激光二极管矩阵,射出m×n束光束,由上述光源射出的m×n束光束之间的间距按照下述方式定义,即在与通过上述偏转机构使上述光束发生偏转的主扫描方向垂直的副扫描方向相关的情况下,在像面上成为n个光点;第1光束间距调节机构(111、121),其设置有n组,该机构按每m束光束,一起对上述光源射出的m束光束在像面上的副扫描方向的光束之间的间距进行调节;第2光束位置调节机构(18),其设置有n-1组,该机构对上述光源射出的m束光束在像面上的光束位置进行调节;第1合成反射镜(17),其按照占光束中的光量中的规定比例使光束产生透射,按照规定比例对该光束进行反射,该机构设置有n-1个,其将m×n束光束会聚为基本通过同一光路的1束光束;成像光学机构(21、33、35、37),其使通过上述偏转机构朝向主扫描方向发生偏转的m×n束光束连续地成像于像面上。
地址 日本神奈川县