清洗装置和清洗方法

摘要

能够不受干燥处理时因清洗液产生的不良影响，而且能够使干燥室的壁厚变薄，并实现使减压用的真空泵等低输出的清洗装置和清洗方法。其构成为能够在把干燥室(42)与清洗槽(41)各自上下分离的同时，还有能利用旋转门(59a)和滑动门(72)遮蔽干燥室(42)的空间和清洗槽(41)的空间、用旋转门(59a)遮蔽清洗槽(41)中的清洗处理、用滑动门(72)密闭·遮蔽干燥室(42)中的干燥处理。

主权项

1、清洗装置，包括：处理槽，其储存处理液，在储存的处理液中浸渍被处理基片；干燥室，其配置在所述处理槽上方，设有在与所述处理槽之间用于传送被处理基片的开关自由的下部开口部分和配置有盖的上部开口；传送装置，其通过所述下部开口部分，在所述处理槽与所述干燥室之间传送被处理基片；其特征在于，还包括：使所述干燥室内处于有机溶剂蒸汽气氛的喷嘴；所述传送装置具有用于保持所述被处理基片的保持部件，和从所述干燥室外侧支承所述保持部件的支承棒，及与该支承棒连接的导槽Z轴，所述保持部件处于所述处理槽内时，该支承棒通过所述下部开口部分插入所述处理槽；所述下部开口部分还设有在关闭时可密闭所述干燥室的密闭装置，使所述被处理基片在干燥室中进行干燥时，所述下部开口部分在关闭时将所述干燥室密闭；所述干燥室的上部设有孔，在所述孔中设有夹紧机构，所述支承棒通过所述夹紧机构可在外侧上下移动地突出而与所述导槽Z轴连接，所述夹紧机构具有包围所述支承棒的空气夹紧密封件；当将所述支承棒在所述干燥室与所述处理槽之间上下驱动时，抽取所述空气夹紧密封件中的空气，当干燥处理所述被处理基片时，使空气夹紧密封件膨胀而将所术干燥室密闭。