发明名称 |
水蒸汽作为处理气,用于离子植入后抗蚀剂剥离中硬壳、抗蚀剂和残渣的去除 |
摘要 |
水蒸汽作为处理气,从具有带图案的光致抗蚀剂层的衬底上剥离光致抗蚀剂材料,该光致抗蚀剂层曾作为离子植入掩模,其中该带图案的光致抗蚀剂层由覆盖在松光致抗蚀剂部分上的光致抗蚀剂硬壳加以限定。广义地说,水蒸汽可以更有效地剥离具有交联光致抗蚀剂硬壳的光致抗蚀剂材料,而不会使光致抗蚀剂硬壳爆裂,或者使松光致抗蚀剂底切。因此,水蒸汽作为一种安全、有效、而且经济的处理气,可用来剥离具有因离子植入而导致的光致抗蚀剂硬壳的光致抗蚀剂材料。 |
申请公布号 |
CN1495861A |
申请公布日期 |
2004.05.12 |
申请号 |
CN03147057.2 |
申请日期 |
2003.08.30 |
申请人 |
兰姆研究有限公司 |
发明人 |
A·陈;罗素芸 |
分类号 |
H01L21/302;H01L21/30;H01L21/00 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王勇 |
主权项 |
1.一种在腔室从衬底上剥离光致抗蚀剂材料的方法,包括:提供具有带图案的光致抗蚀剂层的衬底,该带图案的光致抗蚀剂层曾作为离子植入掩模,从而在带图案的光致抗蚀剂层的外表面上形成了光致抗蚀剂硬壳,因此,该带图案的光致抗蚀剂层由松光致抗蚀剂部分和光致抗蚀剂硬壳加以限定,将衬底放在腔室中;在腔室中加热衬底;并且提供水蒸汽,使水蒸汽转变为活性状态的H和活性状态的O,其特征在于活性状态的H和O与光致抗蚀剂硬壳进行反应,与光致抗蚀剂硬壳的反应用于从带图案的光致抗蚀剂层的松光致抗蚀剂部分去除光致抗蚀剂硬壳。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |