发明名称 | 化学处理方法和化学处理装置 | ||
摘要 | 本发明的化学处理装置是装置(30),在待成膜的材料(C1)上形成的铬膜被该装置刻蚀成预定图案。这一装置包括:阴极电解还原设备(31),用于使用含有氯离子的处理溶液对作为阴极的铬膜进行电解还原处理,和酸浸泡设备(33),用于在由阴极电解还原设备(31)进行电解还原处理之后将铬膜浸泡在酸性处理溶液中。 | ||
申请公布号 | CN1495292A | 申请公布日期 | 2004.05.12 |
申请号 | CN03154639.0 | 申请日期 | 2003.08.21 |
申请人 | 卡西欧迈克罗尼克斯株式会社;村田株式会社 | 发明人 | 山本充彦;米村正雄;泽泻由果;前原智子 |
分类号 | C23F1/00;H05K3/06 | 主分类号 | C23F1/00 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
主权项 | 1.化学处理方法,使用该方法将待成膜的材料(100)上形成的金属膜(110)刻蚀成预定图案,其特征包括:通过使用含有酸根的第一酸性处理溶液或含有卤素离子的碱性处理溶液,对作为阴极的金属膜(110)进行电解还原处理的阴极电解还原步骤;和在阴极电解还原步骤之后,将金属膜(110)浸泡在第二种酸性处理溶液中的酸浸泡步骤。 | ||
地址 | 日本东京 |