发明名称 线性导引装置以及用于设计或形成其轨道沟槽的方法
摘要 本发明公开了一种线性导引装置。在导轨和滑块的轨道沟槽由辊压形成的情况下,假设Dg是由辊压形成的每个轨道沟槽的深度,而Dw是滚动元件的直径,则作为通过将沟槽深度Dg被滚动元件直径Dw除而获得的值的球径比(Dg/Dw)在从0.26到0.45的范围内。
申请公布号 CN1495370A 申请公布日期 2004.05.12
申请号 CN03158485.3 申请日期 2003.09.11
申请人 日本精工株式会社 发明人 秋山胜
分类号 F16C29/04;B21H8/00 主分类号 F16C29/04
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李晓舒;魏晓刚
主权项 1.一种线性导引装置,包括:导轨,其在轴向上延伸并具有在轴向上延伸的第一轨道沟槽;以及滑块,其具有与所述导轨的所述第一轨道沟槽相对的第二轨道沟槽,并由所述导轨支撑,使得其能够通过插入到所述第一和第二轨道沟槽中的多个滚动元件的滚动而沿轴向运动,其中,所述导轨的所述第一轨道沟槽和所述滑块的所述第二轨道沟槽中的至少一个由辊压形成;以及由辊压形成的所述轨道沟槽的深度Dg设定成通过将深度Dg被每个所述滚动元件的直径Dw除而获得的球径比(Dg/Dw)在从0.26到0.45的范围内。
地址 日本东京都
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