| 发明名称 | 抗蚀剂剥离用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种含有具有硝基的有机化合物(A)以及抗蚀剂剥离剂(B)的抗蚀剂剥离用组合物。使用该组合物时，可在半导体或液晶用元件电路等的制造工艺中，高性能地除去配线形成时所生成的抗蚀剂残渣，并能抑制硅基板的腐蚀，或者能很好地防止构成薄膜晶体管的构成金属a－Si以及p－Si的腐蚀。 | ||
| 申请公布号 | CN1496497A | 申请公布日期 | 2004.05.12 |
| 申请号 | CN02806404.6 | 申请日期 | 2002.03.11 |
| 申请人 | 长瀬化成株式会社 | 发明人 | 武井瑞树;内田惠未;小谷武 |
| 分类号 | G03F7/42;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/42 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种抗蚀剂剥离用组合物，其特征在于：含有具有硝基的有机化合物(A)以及抗蚀剂剥离剂(B)。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||