发明名称 |
用于管理光刻镜上的光化光强瞬态变化的方法和设备 |
摘要 |
一种用于使光刻反射镜保持时间恒定热负载的设备和方法。该反射镜包括:成型在基底上的电阻层、用于将电源连接到电阻层的接点、成型在电阻层上的绝缘子层、成型在绝缘子层上的抛光层以及成型在抛光层上的反射层。通过根据掩膜发出的光化热负载,对该反射镜施加附加电热负载,使光刻反射镜保持时间恒定热负载。保持时间恒定热负载可以减小或者消除因为光刻反射镜上的光化热负载的变化引起的图像失真的变化。可以利用单独温度控制降低“冷边缘效应”。 |
申请公布号 |
CN1495529A |
申请公布日期 |
2004.05.12 |
申请号 |
CN03142575.5 |
申请日期 |
2003.06.13 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
圣地亚哥·德尔·皮尤奥托 |
分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;G02B5/08;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
冯赓宣 |
主权项 |
1.一种用于光刻系统、使得能够管理光化热负载的光刻反射镜,该光刻反射镜包括:基底;电阻层,成型在所述基底上;布线层,成型在所述电阻层上,其中所述布线层包括绝缘子层和用于连接到电源的接点;抛光层,成型在所述绝缘子层上;以及反射层,成型在所述抛光层上。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |