发明名称 |
自对准分离栅极与非闪存及制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种自对准分离栅极与非闪存单元阵列及制造方法,其中一系列的自对准分离单元形成在位线扩散与公共源极扩散之间。每个单元具有彼此堆叠并自对准的控制和浮置栅极,以及与其它两个栅极分离但自对准的第三个栅极。在一些实施例中,分离栅极用作擦除栅极,而在另一些实施例中,它们被用作选择栅极。存储单元与现有技术单元相比明显更小,并且该阵列被偏压,以使得其中所有的存储单元可同时擦除,并可位选择地编程。 |
申请公布号 |
CN1495905A |
申请公布日期 |
2004.05.12 |
申请号 |
CN03158545.0 |
申请日期 |
2003.09.18 |
申请人 |
前讯系统股份有限公司 |
发明人 |
陈秋峰;范德慈;吕荣章;普拉蒂普·滕塔苏德 |
分类号 |
H01L27/105;H01L27/04;H01L21/82;H01L21/8234;H01L21/8239 |
主分类号 |
H01L27/105 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
邸万奎;黄小临 |
主权项 |
1.一种与非闪存单元阵列,包括:具有有源区的衬底;多个在有源区上方按行排列的浮置栅极和控制栅极的垂直堆叠对,浮置栅极相对较薄并具有弯曲的侧边而控制栅极在浮置栅极上方;分离栅极,间插在每一行中的堆叠栅极之间并与之对齐;选择栅极,在靠近每一行的一端的堆叠栅极;位线,在每一行的上方;位线扩散,在每一行邻近选择栅极的一端处的有源区中;位线触点,使每一行中的位线与位线扩散互连;相对薄的隧道氧化物,在浮置栅极的弯曲侧边与分离和选择栅极中相邻的栅极之间;以及,源极区,在部分地在浮置栅极之下的分离栅极下的有源区中。 |
地址 |
台湾省新竹市新竹科学工业园 |