| 主权项 |
1.一种气体成分处理薄片,其特征在于,具有母材薄膜(具气体透过性)以及去除剂粒子(用以去除既定之气体成分),前述去除剂粒子系分散于前述母材薄膜中。2.如申请专利范围第1项之气体成分处理薄片,其中,母材薄膜系多孔质薄膜。3.如申请专利范围第1项之气体成分处理薄片,其中,母材薄膜系择自聚烯烃系树脂与氟树脂之至少一者所构成者。4.如申请专利范围第3项之气体成分处理薄片,其中,氟树脂系聚四氟乙烯。5.如申请专利范围第1项之气体成分处理薄片,其中,去除剂粒子系具有将择自水蒸气、氧以及有机物蒸气之至少一成分加以去除之机能。6.如申请专利范围第1项之气体成分处理薄片,系进一步具有保护层(具气体透过性),于母材薄膜积层前述保护层。7.如申请专利范围第6项之气体成分处理薄片,其中,保护层系多孔质薄膜。8.如申请专利范围第1项之气体成分处理薄片,系进一步具有接着层,且前述接着层系配置于最外层。9.如申请专利范围第8项之气体成分处理薄片,系进一步具有保护层(具气体透过性),前述保护层系配置在与接着层为相反侧之最外层。10.一种气体成分处理薄片形成用构件,系具有申请专利范围第8项之气体成分处理薄片以及剥离基材,且复数之气体成分处理薄片系以使得接着剂层与前述剥离基材相接的方式配置于前述剥离基材上。11.一种电致发光元件,系具有申请专利范围第1项之气体成分处理薄片。图式简单说明:图1所示系本发明之气体成分处理薄片之一形态之截面图。图2所示系本发明之气体成分处理薄片之另一形态之截面图。图3所示系本发明之气体成分处理薄片之又一形态之截面图。图4所示系本发明之EL元件之一形态之截面图。图5所示系本发明之EL元件之另一形态之截面图。图6所示系习知之吸附构件之截面图。 |
