| 主权项 |
1.一种增幅性正型光阻材料,其系含有 (A)一种或2种以上由盐、碘盐、磺醯基二偶氮 甲烷、N-磺醯氧基醯亚胺型酸产生剂所选出之光 酸产生剂,0~20重量份; (B)具有下记式(1)所示取代基,且可因酸之作用使其 对硷显像液之溶解性产生变化的树脂,100重量份; C6H11-(CH2)nOCH(CH2CH3)- (1) (式中,C6H11为环己基,n为0或1)。2.如申请专利范围 第1项之增幅性正型光阻材料,其中,(B)成分之树脂 系为具有下记单位(2)或(2')之硷可溶性树脂的苯酚 性羟基及/或羧基之氢原子的一部份或全部受上记 式(1)所示取代基所保护之树脂; (式中,R4为氢原子或甲基,R5为碳数1至8之直链状、 支链状或环状烷基,x为0或正整数,y为正整数,且为 满足x+y≦5之数,M、N为正整数,且为满足0<N/(M+N)≦0. 5之数)。3.如申请专利范围第1项之增幅性正型光 阻材料,其中,(B)成分之树脂系为具有下记单位(2") 之支链型硷可溶性树脂的苯酚性羟基之氢原子的 一部份或全部受上记式(1)所示取代基所保护之树 脂; (式中,ZZ为由CH2.CH(OH)、CR5(OH)、C=O、C(OR5)(OH)群中所 选出之2价有机基,或-C(OH)=所示之3价有机基,E可为 各自相同或不同之正整数,K为正整数,且为满足K/(K +E)=0.001至0.1之数,XX为1或2,R4.R5.x、y具有与上记内 容相同之意义)。4.如申请专利范围第1至3项中任 一项之增幅性正型光阻材料,其中,(B)成分之树脂 为可再含有酸不稳定基之树脂。5.如申请专利范 围第1至3项中任一项之增幅性正型光阻材料,其中, (B)成分之树脂为可再含有选自下记式(4)至(7)所示 之基、碳数4至20之三级烷基、各烷基各自为碳数1 至6之三烷基矽烷基、碳数4至20之羰烷基等酸不稳 定基的树脂; (式中,R10.R11为氢原子或碳数1至18之直链状、支链 状或环状烷基,R12为碳数1至18之可含有氧原子等杂 原子之1价烃基,R10与R11.R10与R12.R11与R12可形成环, 形成环时,R10.R11.R12各自为碳数1至18之直链状或支 链状之伸烷基; R13为碳数4至20之三级烷基、各烷基为碳数1至6之 三烷基矽烷基、碳数4至20之羰烷基或上记式(4)所 示之基,z为0至6之整数; R14为碳数1至8之直链状、支链状或环状烷基或为 碳数6至20之可被取代之芳基,h为0或1,i为0.1.2.3中任 一者,且为满足2h+i=2或3之数; R15为碳数1至8之直链状、支链状或环状烷基或碳 数6至20之可被取代之芳基,R16至R25各自独立为氢原 子或碳数1至15之可含有杂原子之1价烃基,R16至R25 可相互形成环,此时,其为碳数1至15之可含有杂原 子的2价烃基;又,R16至R25中,相邻接之碳键结之原子 间可无须夹杂其他原子而直接键结,或形成双键) 。 |
