发明名称 基于酞菁钛氧新相的光电导体材料
摘要 通过处理γ-型氧酞菁钛氧来提供具有晶格排列内混物的氧酞菁钛氧的晶相,本文中将其称为S-相。S-相是真正的新相,而不是各种相(例如,β-相和γ-相的组合)颗粒的混合物,其原子和分子的内部晶格分布形成新的、非连续的、不均匀的晶格结构。X射线光谱显示了混合的衍射峰,具有的峰以前只明显地存在于各种晶形氧酞菁钛氧的集合中,但现在单个晶形就可以提供。可见光谱显示了显著的吸收差异。在光电导体中也使用新的S-型氧酞菁钛氧,其对于CuK-α特征X射线(波长1.541埃),至少在布拉格2θ角为9.5±0.2度、9.7±0.2度、11.7±0.2度、13.5±0.2度(任选地在21±0.2度和/或23.5±0.2度)、24.1±0.2度、26.4±0.2度和27.3±0.2处度显示主峰。也可以在15.0、15.3和16.0±0.2度处存在接近或等于主峰的附加峰。
申请公布号 CN1493926A 申请公布日期 2004.05.05
申请号 CN03158638.4 申请日期 2003.06.21
申请人 三星电子株式会社 发明人 朱嘉毅;兹比格纽·托卡斯基;詹姆斯·A·贝克;罗纳德·J·莫德里;戴维·T·阿斯克;纽斯雷拉·朱布兰;卡姆·W·劳
分类号 G03G5/06;C09B47/04 主分类号 G03G5/06
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 宋莉;贾静环
主权项 1.一种电子照相术用感光体,含氧酞菁钛氧化合物,该化合物对于波长为1.541埃的CuK-α特征X射线,至少在布拉格2θ角为9.5±0.2度、11.7±0.2度、15.0±0.2度、23.5±0.2度、24.1±0.2度、26.4±0.2和27.3±0.2度处有主峰。
地址 韩国京畿道