曝光设备及传送掩模和工件的方法

摘要

一种曝光设备，其包括：设置在加载/卸载位置与曝光位置之间处于不同高度的第一传送通道和第二传送通道；第一和第二工作台，其中之一设置在所述的加载/卸载位置，而另一个设置在所述的曝光位置；升降机构，其将所述第一和第二工作台的其中之一提升至所述的第一传送通道，并将所述第二和第一工作台中的另一个下降至所述的第二传送通道；和传送机构，其分别将所述的第一和第二工作台传送至所述的加载/卸载位置和曝光位置。所述的第一和第二工作台中的每一都具有其上设置有工件的载物台板和事先安装有掩模的透光板。

主权项

1、一种曝光设备，其包括：第一工作台和第二工作台，每个工作台都包括其上放置有工件的载物台板，和事先安装有掩模的透光板，所述的第一和第二工作台轮流在加载/卸载位置和曝光位置之间传送，其中在加载/卸载位置上工件被加载/卸载并与所述的掩模对准，在曝光位置上对已对准的工件和掩模进行曝光；第一传送通道和第二传送通道，它们设置在所述的加载/卸载位置与所述曝光位置之间的不同高度处，其中所述的第一传送通道轮流传送所述的第一工作台和第二工作台，而所述的第二传送通道轮流传送所述的第二工作台和第一工作台；升降机构，其将所述的第一和第二工作台中的一个提升至所述的第一传送通道，且将所述的第二和第一工作台中的另一个下降至所述的第二传送通道；传送机构，其沿所述的第一和第二传送通道传送由所述的升降机构提升或下降的第一和第二工作台，将所述工作台中的一个从所述的加载/卸载位置传送到曝光位置，且将其中的另一个从所述的曝光位置传送到加载/卸载位置；对准机构，其使放置在被传送到所述加载/卸载位置的工作台中的一个上的工件与该掩模对准；和光照射机构，其发射光至放置在被传送到所述曝光位置的工作台的另一个上的工件。