检查方法和光掩模

摘要

本发明提供一种投影光学系统的高精度的检查方法。通过经偏振的第1曝光光，在涂敷于晶片(10)上的抗蚀剂上转印光掩模(33)的曝光标记，并求出投影光学系统(9)的光学特性。接着，通过其偏光状态与第1曝光光不同的第2曝光光，在涂敷于晶片(10)上的抗蚀剂上转印光掩模(33)的曝光标记，并求出投影光学系统(9)的光学特性。然后，计算通过第1和第2曝光光求出的光学特性之差，进行投影光学系统(9)的性能检查。

主权项

1.一种检查方法，其特征在于该检查方法包括下述步骤：通过已偏振的第1曝光光，在涂敷于晶片上的抗蚀剂上转印光掩模的曝光标记，并求出投影光学系统的第1光学特性；通过其偏光状态与上述第1曝光光不同的第2曝光光，在涂敷于晶片上的新的抗蚀剂上转印上述光掩模的曝光标记，并求出上述投影光学系统的第2光学特性；计算上述第1和第2光学特性之差。