具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备

摘要

一种包括曝光室和掩模版夹持器的光刻设备，该夹持器按该光刻设备的用户指令，更换要曝光的掩模版。该掩模版夹持器可以包括：能适应真空的机器人；容纳该机器人的真空室；用于输入各掩模版并把它们从大气压过渡到真空的装入闸室；处理该掩模版的处理站；以及储藏至少一块备用掩模版的掩模版库，以便能快速地在曝光过程中使用该掩模版。该机器人可以有两个或更多摇杆式夹，以便同时夹持多块掩模版。这样可用第一摇杆把第一掩模版移离掩模版载物台，同时用第二摇杆把第二掩模版装在掩模版载物台上，余此类推，以便把更换时间缩至最短。

主权项

1.一种方法，包括的步骤有：在真空处理区处理从真空输入区接收的掩模版；把掩模版储藏在真空库中；对储藏的掩模版加索引；和根据所述加索引步骤，从真空库检索请求用于在晶片上曝光的某一图形的掩模版。