发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND PRINTED WIRING BOARD USING THE COMPOSITION
摘要
申请公布号 AU2003271131(A1) 申请公布日期 2004.05.04
申请号 AU20030271131 申请日期 2003.10.08
申请人 HITACHI CHEMICAL CO., LTD. 发明人 MASAYUKI HAMA;KEISHI HAMADA;TSUTOMU MAMIYA;TOORU KATSURAHARA;KENNICHI KAWAGUCHI;TOSHIZUMI YOSHINO;KUNIAKI SATOU;MASAYOSHI JOUMEN
分类号 G03F7/027;G03F7/038;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/027;G03F7/032;G03F7/035 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
地址