利用金属有机胺类与金属有机氧化物类形成金属氧化物的系统与方法

摘要

本发明系关于一种藉使用蒸气沉积法并利用一或多个包含有机胺配位基之前驱化合物及一或多个包含有机氧化物配位基之前驱化合物，以便在基材(特别是半导体基材或基材组件)上形成金属氧化物层的方法(以及其装置)。