藉由过度抛光而在光波导中制造垂直光锥的方法

摘要

一种制造波导光锥之方法(包含在一包覆层上形成一核心层之方法)。在该核心层上形成一层带有开口之保护层，该开口暴露了该核心层之一部分。再用CMP工艺进行处理以使在该暴露部份上碟形下陷出现，形成具有倾斜侧壁之凹陷结构。在某种实施例中，该核心层接着被定义图形，使得该核心层之一部分被移除到大约凹陷结构之深度。被去除之部分包括包含凹陷结构之核心层之一部分。所得到之结构包括一未经过蚀刻处理之倾斜表面，该斜面转换为一经过蚀刻之大体平坦表面。核心层再被定义图形并被蚀刻以形成波导，其中倾斜表面构成光锥部分。